高真空退火爐/高溫介電溫譜儀

產品型號：

廠商性質：生產廠家

所在地：北京市

更新日期：2023-12-14

產品簡介：

高真空退火爐

高真空退火爐/高溫介電溫譜儀儀器介紹：

華測儀器開發(fā)了一種可實現高的精度，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置儀器，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。可實現寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空， 高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講，都能節(jié)省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系，安全可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現溫度控制操作！

高真空退火爐/高溫介電溫譜儀設備原理：

• 輻射加熱

紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。

• 紅外線燈

紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。

• 反射光

反射鏡是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。

設備特點

• 高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時體可配置水冷，增設氣體冷卻裝置，可實現快速冷卻。

• 溫度高的精度控制

通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

• 清潔加熱

反射鏡是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS

• 不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境，低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

更多應用：樣品腔內徑≥30mm；      退火爐外徑：≤100mm

1、電子材料

半導體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻）

熱源薄膜形成

激活離子注入后

硅化物的形成

2、陶瓷與無機材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐。

3、鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過程的數值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理（1000°c以下）

大氣氣體熔化過程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐

4、復合材料

耐熱性評價爐

無機復合材料熱循環(huán)試驗爐

5、其他

高溫拉伸壓縮試驗爐

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導陶瓷退火爐