1400℃原位高溫光學加熱平臺

產品型號：Huace 1400-XY

廠商性質：生產廠家

所在地：北京市

更新日期：2026-05-22

產品簡介：

Huace 1400-XY 1400℃原位高溫光學加熱平臺

價格僅供參考，如需獲取更詳盡的產品技術規格書、定制方案或應用案例，歡迎致電我司技術工程師

Huace 1400-XY 1400℃原位高溫光學加熱平臺由華測儀器生產，設備采用耐高溫陶瓷加熱體與高溫阻絲加熱結構，搭配 PID 控溫算法與高準度 S 型熱電偶，確保溫度準確調控與長期穩定。配備 XY 雙向可調載樣臺，位移 ±6mm，精度 0.01mm，可在高溫過程中靈活調整樣品觀測位置，適用于材料科學、冶金、陶瓷、地質及半導體等領域，用于高溫下樣品相變、熱膨脹、燒結、熔化等過程研究。

產品參數

設備型號：Huace 1400-XY

加熱方式：電阻加熱（高溫阻絲）

溫度范圍：室溫～1400℃

溫度穩定性：±0.1℃

溫度分辨率：0.1℃

升溫速率：1~150℃/min 可調

載樣臺材質：陶瓷

載樣臺尺寸：20mm×20mm×4mm（長×寬×高）

可達樣品高度：4mm

樣品臺位移：X/Y 軸 ±6mm，精度 0.01mm

光路：反射光路

上視窗尺寸：Φ3mm

載樣臺到視窗上表面距離：18mm

腔室環境：真空 / 惰性氣氛（Ar、N?）/ 大氣

選配：真空系統、定制水循環系統、定制軟件控溫系統